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TRIBO Series系列電弧/磁控濺射多功能鍍膜設備

       真空室選項——野馬的高度可配置的解決方案從一個室選擇基于數量的來源。高達8沉積位置可以配置一系列的沉積來源和電源配置。

 

        野馬的系統可以配置為單沉積技術,包括專用或者通過結合沉積方法混合解決方案就多達8個不同的沉積方法。標準涂層面積24英寸或48英寸的高度、24-38英寸直徑與單一旋轉或多個行星自轉。

        系統平臺——高度可配置的產品組可以使廣泛的摩擦學過程配置和簡單的升級或改造,為未來的應用?;鞠到y包含了所有的工業設計的特性,使得野馬真空系統成功的兼容許多行業。

  • 推動工業控制平臺與配方,觸摸屏工業PC接口
  • 工業系統設計符合人體工程學的證明維護和確保運行正常
  • 高正常運行時間的解決方案,利用一級零部件供應商與全球支持
  • 單或雙門設計與集成的工具來最大化的生產能力

 

規格
●雙層不銹鋼水夾套真空室設計。
●快速裝卸屏蔽罩和行星轉臺的設計。
●行星旋轉襯底轉臺分成三層。
●多個屏蔽輻射元素為襯底加熱與熱電偶反饋提供允許溫度監測與控制基板的溫度最大的高達600°C。
●2 x直流和交流線性輝光放電陣列,用于等離子體預處理、離子輔助沉積或PACVD面涂層。
●靈活的單(1)到6(6)單獨關閉陰極靶位可供各種濺射、蒸發& PACVD沉積源包括:
1、專利的高功率密度(高達30 w/平方厘米)、不平衡或平衡磁控管為直流、脈沖直流、交流、射頻和HIPIMS濺射操作。
2、矩形和圓形80 - 200 a引導電弧蒸發陰極。
3、熱絲、脈沖直流、交流和射頻PACVD。
4、熱、電子束蒸發。
5、直流、脈沖直流、交流或射頻襯底偏置電壓為定制離子輔助增長遞送。


●標準矩形陰極尺寸的6 x 30英寸和6 x 54英寸(其他請求)。
●PLC / Windows PC控制與綜合顏色觸摸屏。多個用戶選定的配方可以從人機界面,幾乎無限的配方存儲在主機電腦。網絡/調制解調器進行遠程訪問“實時”診斷運行或過程監控。
●多個質量流量控制器(通常是Ar、N2 CxHy,O2和備用)工作&活性氣體輸送和凈化控制。
●干燥劑排氣作為標準。
●標準濺射&弧電源(額外的制造商和配置要求):
●直流電源- 5-30KW甚至高達180千瓦大功率電源
●脈沖直流電源- 5-30KW
●AC /中頻功率- 5 - 150千瓦
●射頻功率- 5-15KW
●HIPIMS(高功率脈沖磁控濺射)力量——40千瓦(高功率峰值高達8 mw)
●引導弧- 80 a,120或200一個


標準泵的配置和選擇:

●1 x愛德華茲GXS250/2600粗&羅茨泵方案。
●2 x愛德華茲STP-iXA 2206 5軸,磁懸浮,渦輪分子泵。

 

可選的:
●Leybold SV 630或1200機械水泵WH4400 SV與羅茨泵。
●WH4400 Leybold雙干泵與羅茨泵
●20英寸的瓦里安擴散泵
●MaxCool 4000 Polycold
●其它要求

●生產&自動化選項:
●單室門、手動操作。
●雙室門、手動操作。
●簡單加載/卸載行星旋轉唱盤&攜帶手推車。
●單或2位置完全自動轉盤可以水平或垂直地提出根據夾具。

 


 

  
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