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真空鍍膜機操作步驟?
發布時間:2014-12-16 瀏覽:7077 次

  1.清洗前,看片子是否短路,是否大小與樣品托合適,蒸鍍時放樣品托的架子升最高,且旋轉。

  2.打開電流開關,及時打開ABC舟中一個,打開束源爐,及時打開其中一個啟動A、B等。

  3.摻雜材料用量覆蓋舟底即可。

  操作步驟:

  1、打開總開關,包括冷卻水開關和機器開關。

  2、打開鍍膜機總開關,樣品旋轉開關,升降開關按鈕。

  3、將玻璃基板至于樣品托中,導電一面向下。

  4、蒸鍍室、預處理室放氣。

  5、打開蒸鍍室與預處理室之間的閘板閥(順時針方向關,逆時針方向開),推拉桿推至大真空室中,將樣品放到推拉桿上,將推拉桿拉回至預處理中。關閉閘板閥(順時關閉,逆時針開)

  6、打開快門控制電源,打開快門一,更換鎢絲(每做一次實驗更換一次),將鋁絲掛在鎢絲上(5個,掛于彎折處),檢查蒸鍍所需材料。

  7、將掩膜版放置于掩膜版架上。

  8、打開機械A、機械B泵。打開四個真空計,關閉放氣閥。

  9、基片預處理(打開角閥):當處理室真空度達到4.0E1 (4.0×10)Pa

  時關閉預角閥,打開大真空室角閥,再打開紫外轟擊電源(直流濺射電源),調節電流0.025-0.030A。轟擊10-15分鐘(等預處理室與蒸鍍室氣壓平衡,打開閘板)。

  10、插入樣品托:再次打開蒸鍍室與預處理室之間的閘板閥(順時針方向開,逆時針方向關),將樣品傳送至蒸鍍室,用機械手抓取樣品托,并保持在機械手上;然后將將推拉桿拉回至預處理中,關閉閘板閥;降低蒸鍍臺(注意樣品托擋板位置)與機械手平齊,將樣品托輕輕推入蒸鍍臺下方的樣品托導引槽(上方導引槽)。

  11、插入掩模板:將樣品升降電源調到手動,將蒸鍍臺旋轉180度(用皮帶精確定位),用升降盒使蒸鍍臺最下方的掩模板導引槽與掩膜版庫軌道,至于同一水平線上,用機械手將掩膜版輕輕推至蒸鍍臺的掩

  模板導引槽。

  12、當大真空室的壓強為1.2E1的時候,關閉角閥,打開閘板閥。

  13、關閉機械泵A,升起樣品臺。

  14、打開分子泵。抽到6.0-6.5E-4(大概需要兩個小時)。

  15、蒸鍍過程:打開快門總開關,晶振開關(F1是清零,F5是開始或停止)。

  16、打開PID(束源爐)開關,調節溫度,依次蒸鍍相關材料,制備OLED器件。

  17、關閉分子泵閥門,放氣(真空室頂部放氣按鈕)。打開真空室,取出樣品。

  18、關閉真空室,待分子泵數字為零時關閉分子泵后關閉機械泵B,打開機械泵A的閥門,打開機械泵A抽低真空。如果長時間不用時一定要關閉循環水冰柜電源,以防凍裂。

 

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